是能够答应。
详细的了解了一番墨塔微电现在的发展，陈怀庆觉得还挺是不错的。
现在墨塔微电还是得要提升产品的可靠性。
至于说EUVLLC联盟……
EUV技术方案在此时，是一个看起来极其激进的方案，技术难度极其的大。
相比起激进的技术方案，还有更加稳妥的路线可走，在前代的技术上面稳定的推进技术进步。
比如说采用157nm的F2激光。
陈怀庆很清楚，传统的光刻机技术方案只能够做到10纳米以上的制程工艺。
2010年的时候，193nm光源的沉浸式光刻机还能够生产11nm制程工艺的芯片。
如果墨塔微电按照现在的技术路线走下去的话，可以肯定的一点，保证10纳米芯片的生产还是能够做到的。
但是，陈怀庆可并不只是满足这点。
实际上对于EUV光刻机的技术研发，墨塔微电也是早就已经在推进。
的确，墨塔微电做不到EUVLLC联盟那样子集合北美和欧洲之力来搞。
可陈怀庆很坚信的一点，那就是华国的聪明人多啊！
只要有明确的技术路径，再加上充足的研发投入，那么就肯定能够搞出来。
在搞出来之后，慢慢的来进行完善。
反正对于EUV光刻机实际上在需求上面来讲，并不是那么的急迫，用二十多年来弄，这总是没有问题吧？
陈怀庆最终还是觉得，优先满足墨塔半导体更加的重要。
光是墨塔半导体的需求，就足以是满足墨塔微电的发展需要。
墨塔半导体采购光刻机，自然也不是全部都采购自墨塔微电。
还是会从尼康采购一定量的光刻机产品，甚至从其他厂商那边采购上一些。
没别的目的，就拿来用上一下，感受下。
闭门造车出门合辙！
但是一般情况下，闭门造车的产物，有着各种的问题。
所以，大家就很反对闭门造车这个事情。
墨塔微电也是需要不断的从外界来吸纳技术灵感，有的时候，一个难题直接把人给卡住了。
可这个是你的难题，对于别人来讲，可能就早已经解决了这个难题。
在这个时候，如果能够借鉴上一下，那么自然就更为好了。
光刻机有三大核心技术：光源系统、光学镜头和工作台。
工作台的研发是墨塔微电自己进行的，光源系统和光学镜头是由其他企业进行的。
做光源的叫做科道虹源。
至于说做光学镜头的，是海鸥相机在做。
光学镜片是由墨子光学在做。
陈怀庆在离开墨塔微电之后，就去了科道虹源。
科道虹源算不得什么大公司，甚至在外界，根本就没有多少人知道这家公司。
可这家并不被为人知的公司，却是国外某些机构重点进行关注的。
科道虹源生产的光刻机光源，就是墨塔微电的底气所在。
即使被限制获得一些零部件，对于墨塔微电来讲，的确会是有着些麻烦。
但是并非说就不能够被克服。
科道虹源说是公司，还不如说是实验室。
因为整个公司四百六十多号人，技术研发人员就有四百四十多人。
剩余二十多人，就是行政人员了。
行政人员的存在，就是为了保障技术研发人员的工作和生活的。
陈怀庆重点的关注了EUV光源的一个研发情况。
光源的研究难度很大，这一点是肯定的。
不少人认为，EUV光刻机依靠一国的力量是搞不出来。
对此，陈怀庆只能够说，那是没有遇到我们。
华国有足够多的智力资源来做已知人类科技的任何研究。
当然，现在华国的智力资源还是有着很大的不足。
或者说，智力资源的潜力，还没有是完全的开拓出来。
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